MPG-P1100与传统双光子激光直写光刻系统最大的区别就在于使用两路加工光束。其中一路为波长532nm的飞秒激光，称为激发光；另一路为波长532nm的连续激光，称为抑制光。在加工时，使用专用的PPI光刻胶，这种光刻胶对激发光和抑制光有不同的光敏效果：激发光可以使光刻胶照射位置发生双光子聚合形成结构，抑制光则可以破坏光刻胶分子交联达到去聚合的效果。当抑制光与激发光合束后，通过聚焦形成3D暗斑以减小激发光等效光斑尺寸，从而超越光学衍射极限，实现高精密双光束直写加工。 基于边缘光抑制（PPI）的激光直写技术是一种超高精度三维直写光刻技术。本系统利用可见光曝光实现亚50nm尺寸结构加工，突破衍射极限，并实现单波长激发与抑制，避免色差影响，为大面积超分辨刻写奠定了研究基础；针对系统扫描曝光方式改进，速度比原来文献中的曝光速度至少可提升1个数量级，提升了PPI直写刻写技术的应用潜力。